发布时间：2024-11-17浏览次数：169
CVD系统
设备参数：
最高生长温度：1050 ℃
气体和液体两种碳源供给方式
可控低压生长和常压生长
氩气、氮气、氢气和二氧化碳四种载气
完整气路系统，MFC精准控制气体流量
负责人：陈雨、谢凡
